首先无论从哪个角度讲都不存在20%良率的情况。因为只有当初GT200级别的GPU切割才接近这一数字,那是发烧级,可以接受这样的报废率。对于100$美元市场来说,最多30$的芯片成本是无法在20%的良率下投产的。和55n ...
shu0202 发表于 2009-5-7 00:32
因为只有当初GT200级别的GPU切割才接近20%这一数字,那是发烧级,可以接受这样的报废率。对于100$美元市场来说,最多30$的芯片成本是无法在20%的良率下投产的。和55nm工艺RV770相比较来推算,RV740必须维持最低40%的良率才有经济性。这是按100$美元划线考虑,目前网购RV740最低报价已经降至89$,并且AMD并没有要延长RV770生命的意思,因此所谓RV740在40nm工艺上“相当糟糕”的说法是言过其实的。
shu0202 发表于 2009-5-7 00:32
关于TSMC的40nm制程遇到困难从去年10月份就有这样的说法,但是从RV740来看,量产进度并未受到严重影响,可以说相当顺利。符合TSMC公开说明的“许多问题已经解决和正在解决”的说法。RV740工艺上面的问题并未影响RV740的设计目标和推出时间,相比于NV推出55nm产品的迟缓和40nm量产的遥遥无期,对RV740的攻击显然缺乏令人信服的力量。
另外,RV740的后续产品的工艺设计已经基本就绪,这也说明当初困扰40nm工艺的关键性问题如今已不再构成障碍,NV和AMD的下一代产品不在一条起跑线上。如果谈障碍的话,NV恐怕更头疼,GT300的设计相当复杂,工艺问题敏感度更高。按照40%比例的下一代主流设计遥遥无期。RV870可能会在他的“黄金岁月”中没有对手……
shu0202 发表于 2009-5-7 00:32
11# Asuka
对于新制程,20% 已经是可以接受的良率,这个良率意味着不存在重大的技术障碍。
就RTA 而言,影响局部的清洁度很严重,比如在Si 工艺中,金属杂质的含量影响可能超过一个到两个数量级,局部杂质超标 ...
tomsmith123 发表于 2009-5-7 12:21
39# mooncocoon
我理解的RTA 是,Rapid Thermal Annealing,不知道是不是有误会。
从我的印象里面RTA 对于Si 工艺的金属杂质,如铁的影响很大,有实验表明基本差距在1,2个数量级,联系到40nm的漏电传说,想到可 ...
tomsmith123 发表于 2009-5-7 18:35
良率不高是和RTA条件不当和次生关联效应有关的,在现代工艺中完全不用RTA是不可能的,这是常识,正如你上面所引述的,RTA除了能激活注入掺杂,还能实现低阻Si金属化,调节S/D-ext浅结界面, 修复缺陷损伤,以及改变沟 ...
AN_Fusion 发表于 2009-5-8 13:13
撇开a版提及的那么多深奥专业词不谈,楼主的分析是很有逻辑而且通俗易懂的。| 欢迎光临 POPPUR爱换 (https://we.poppur.com/) | Powered by Discuz! X3.4 |