看到Intel一直未采用SOI技术，觉得难以成为主流啊？
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ncmoon at 2010-1-19 11:26:56
就目前的技术来讲：可以工程实现的有
Si Stress
SOI
Fin 3D gate
high K metal gate
III V族
评价性能占前2位的技术。
后面的小性能提升技术的应用如果基于高性能技术技术上。是没有意义的。
比如high K metal gate （80%）+SOI（10%）
这个时候SOI就没有意义了。
具体的性能提升参数和成本控制，以及稳定性数据我没有。
所以只有给你提出方法。 结论上我不知道。
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但是从intel技术端倪上来看。
Si Stress 90 -〉65， 感觉一般。
high K metal gate 65-〉45， 很强大。
SOI IBM 研究了好久， 但是在high K metal gate 出来以后，
IBM研究high K 的劲头似乎比intel 还起劲。（明显的SOI不太灵光么）
这一段是我的猜测。
如果谁有数据说话，更有说服力。
悠悠...... at 2010-1-19 11:51:09 http://www.semiconductor.net/art ... tle&rid=8478236
RRAM at 2010-1-19 12:03:38
INTEL基本上已经彻底放弃了SOI， 这也代表SOI基本不会成为主流 ， 个人相当不看好SOI INTEL ROADMAP---------------22NM 第三代HIGH-K ---15NM tri-gate ----11NM III V族
