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标题: AMD 45nm貌似用的水层是怎么一回事？ [打印本页]

作者: droganmaster 时间: 2008-4-25 14:56
标题: AMD 45nm貌似用的水层是怎么一回事？
RT 看到AMD的技术展示会议上的图片
不知道用水层的原理是什么难道是纯净水的绝缘强可以阻断漏电？
不知道比Intel的金属铪栅极优缺点如何~~不过就目前看Intel的45nmU发热比65nm降低还是比较有限可能
工艺上尚不成熟

作者: spinup 时间: 2008-4-25 15:39

原帖由 droganmaster 于 2008-4-25 14:56 发表
RT 看到AMD的技术展示会议上的图片
不知道用水层的原理是什么难道是纯净水的绝缘强可以阻断漏电？
不知道比Intel的金属铪栅极优缺点如何~~不过就目前看Intel的45nmU发热比65nm降低还是比较有限可能
工艺上尚不 ...

这个和high-K,low-k什么的都没有关系。
现在光刻用的波长是193nm，要刻接近100nm的线需要特别的技术。
水的折射率比空气高，所以有效波长可以小一些，就可以继续在45nm甚至更小的线宽用193nm光刻了。

作者: colddawn 时间: 2008-4-25 16:24
water?wafer?

作者: 火龙大少 时间: 2008-4-25 16:32
wafer
KK: []
DJ: []
n.[C]
1. 薄酥饼;威化饼
2. 【宗】(天主教做弥撒时用的)圣饼
3. 封信条,封缄纸
4. 【电】薄片;圆片;晶片
5. (用于包药以便吞服的)糯米纸
vt.
1. (用封信条)封(信封等)

以上结果由 Dr.eye译典通字典提供

作者: 侏罗纪跑步龙 时间: 2008-4-25 17:28

原帖由 droganmaster 于 2008-4-25 14:56 发表
RT 看到AMD的技术展示会议上的图片
不知道用水层的原理是什么难道是纯净水的绝缘强可以阻断漏电？
不知道比Intel的金属铪栅极优缺点如何~~不过就目前看Intel的45nmU发热比65nm降低还是比较有限可能
工艺上尚不 ...

ppt左边的英文不都讲了嘛...不仔细看

作者: boris_lee 时间: 2008-4-25 23:50
浸润式光刻，液体未必是水:w00t):

作者: siemens_wolf 时间: 2008-4-26 03:37
恩,水在这里作用类似放大镜

作者: samhrc 时间: 2008-4-26 09:09
这个技术早就有了。光学显微镜用的齐名透镜就是这种充油的结构。

因为空气对玻璃或这其他透镜的材料折射率不合适，而且色散大。需要用另外一种透明介质代替空气。

PS:如果用近紫外光光刻的话这个液体介质是二溴乙烯。

作者: samhrc 时间: 2008-4-26 09:11
这个原理就和阿贝折射仪是异曲同工的。

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