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AMD 45nm貌似用的水层是怎么一回事?

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1#
发表于 2008-4-25 14:56 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
RT  看到AMD的技术展示会议上的图片
不知道用水层的原理是什么 难道是纯净水的绝缘强可以阻断漏电?
不知道比Intel的金属铪栅极优缺点如何~~不过就目前看Intel的45nmU发热比65nm降低还是比较有限 可能
工艺上尚不成熟
2#
发表于 2008-4-25 15:39 | 只看该作者
原帖由 droganmaster 于 2008-4-25 14:56 发表
RT  看到AMD的技术展示会议上的图片
不知道用水层的原理是什么 难道是纯净水的绝缘强可以阻断漏电?
不知道比Intel的金属铪栅极优缺点如何~~不过就目前看Intel的45nmU发热比65nm降低还是比较有限 可能
工艺上尚不 ...


这个和high-K,low-k什么的都没有关系。
现在光刻用的波长是193nm,要刻接近100nm的线需要特别的技术。
水的折射率比空气高,所以有效波长可以小一些,就可以继续在45nm甚至更小的线宽用193nm光刻了。
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3#
发表于 2008-4-25 16:24 | 只看该作者
water?wafer?
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4#
发表于 2008-4-25 16:32 | 只看该作者
wafer
KK: []
DJ: []
n.[C]
1. 薄酥饼;威化饼
2. 【宗】(天主教做弥撒时用的)圣饼
3. 封信条,封缄纸
4. 【电】薄片;圆片;晶片
5. (用于包药以便吞服的)糯米纸
vt.
1. (用封信条)封(信封等)

以上结果由 Dr.eye译典通字典 提供
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5#
发表于 2008-4-25 17:28 | 只看该作者
原帖由 droganmaster 于 2008-4-25 14:56 发表
RT  看到AMD的技术展示会议上的图片
不知道用水层的原理是什么 难道是纯净水的绝缘强可以阻断漏电?
不知道比Intel的金属铪栅极优缺点如何~~不过就目前看Intel的45nmU发热比65nm降低还是比较有限 可能
工艺上尚不 ...


ppt左边的英文不都讲了嘛...不仔细看
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6#
发表于 2008-4-25 23:50 | 只看该作者
浸润式光刻,液体未必是水:w00t):
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7#
发表于 2008-4-26 03:37 | 只看该作者
恩,水在这里作用类似放大镜
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8#
发表于 2008-4-26 09:09 | 只看该作者
这个技术早就有了。光学显微镜用的齐名透镜就是这种充油的结构。

因为空气对玻璃或这其他透镜的材料折射率不合适,而且色散大。需要用另外一种透明介质代替空气。

PS:如果用近紫外光光刻的话这个液体介质是二溴乙烯。
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9#
发表于 2008-4-26 09:11 | 只看该作者
这个原理就和阿贝折射仪是异曲同工的。
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