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发表于 2009-6-18 10:27 只看该作者
台积电28奈米明年初量产 推低耗电平台台积电28奈米明年初量产 推低耗电平台1 n/ n9 Y( O! n% z+ H0 O
40奈米良率回稳 GPU出货3Q仍旺
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台积电17日选在技术论坛前一天宣布成功开发28奈米制程技术,同时率先推出低耗电技术平台,根据台积电时程规画,预计最快2010年初开始生产,由于低功耗主要是针对可携式芯片领域所设计,外界预料高通(Qualcomm)等手持式装置芯片客户将可率先采用。而业界今日也在期待睽违4年,将亲自主持技术论坛的台积电董事长兼总执行长张忠谋将对外端出什么「牛肉」。 w& F0 F! _5 u- a! {$ b
台积电在17日选择日本京都举行的超大规模集成电路技术及组件技术研讨会(2009 Symposia on VLSI Technology and Circuits)上发表最新28奈米制程技术,台积电研发副总孙元成说,台积电与客户已展开密切合作,28奈米完成开发是技术上的一个突破和创新。而台积电也表示,28奈米将取代32奈米定位为全世代(Full Node)制程,提供高效能、低耗电制程技术平台,预计2010年初开始生产。, k: s6 r$ o4 w2 R# V; o. D M
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! _7 B) w' ?5 M' c" T台积电选在17日本京都发表28奈米技术,在论文中,台积电28奈米低耗电技术,同时配合双/三闸极氧化层(dual/triple gate oxide)制程,并将32奈米制程使用的氮氧化硅(Silicon Oxynitride;SiON)/多晶硅(poly Si)材料延伸至28奈米制程。5 ~% A6 y: t7 K. z3 a" s! H
而台积电28奈米双/三闸极氧化层系统单芯片技术所产出的64Mb SRAM,良率已十分稳定,SRAM测试芯片的尺寸仅约0.127平方微米,相当具有尺寸竞争力。9 n9 [( D. V: ~1 h/ a( u
而根据比较,台积电藉由应变硅( straining engineering)与具竞争力的氧化层厚度优化的氮氧化硅材料所产出的晶体管,与前一世代的45奈米制程技术相较,速度约提高25~40%、操作功耗减少30~50%,还拥有低待机及低操作功耗的优势。
i B1 s: X I* ]+ |+ s台积电自45奈米制程技术开始,已将半世代制程提升至全世代的地位,以40奈米取代45奈米,以28奈米取代32奈米。不过市场上对于台积电40奈米良率曾有传闻,但据了解,目前台积电40奈米良率已经回到持稳水平,同时,客户尤其是绘图芯片业者部分第2季订单也将会延展至第3季,台积电第3季绘图芯片出货仍将畅旺。
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