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GF20nm工艺流片成功,与三星携手28nm工艺

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发表于 2011-8-31 19:59 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
日前GlobalFoundries与三星联合宣布,两者携手同步制造采用28nm HKMG工艺高性能低漏电率的芯片。据称这种工艺专为移动设备处理器而设,例如智能手机、平板电脑和笔记本电脑等。  据消息显示,新工艺的产品比现有的45nm工艺产品在同样频率下可节省60%的功耗,同样功耗下则可以提升55%的性能。在两家的晶圆厂同步投产后,客户的芯片无需重新设计也可以在两者的晶圆厂内同步生产。
  另外GlobalFoundries也在近日宣布,他们的20nm工艺试验芯片流片成功,已经在新工艺的发展道路上迈出了里程碑般的一步。不过关于新工艺的细节,GlobalFoundries并没有进行透露。

  消息来源:[Xbit-Labs]
2#
发表于 2011-9-1 07:19 | 只看该作者
HD7000显卡要出世了吧?
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